PVD多弧真空離子鍍膜機

不鏽鋼板大型PVD鍍膜設備

  • PVD
    PVD
  • 真空離子鍍膜機
    真空離子鍍膜機
  • PVD-HC900A
    PVD-HC900A
PVD多弧真空離子鍍膜機

需要產品報價?

 PVD 真空離子鍍膜與傳統電鍍         之不同  

 傳統電鍍在 大氣中,以電解液為媒介,屬高污染製程  

真空離子鍍在真空環境下,以電漿為媒介,屬於環保製程 

特性    

 傳統電鍍 均勻性佳,薄膜表有光澤。但僅以包方式 蓋表無密著力可言  

真空離子鍍 膜質緊密,均勻度視旋轉夾具之結構而定 

    傳統  硬度約 Hv900 左右 硬度可達 Hv1800 以上 

    真空  厚度    厚度約為鍍膜的 10 倍以上 厚度為微米級(μm)有絕佳的被性 

    傳統  密著    熱脹冷縮容易脫落 

    真空  寬 0.2mm2 的鑽石壓子尖端可承受 10g 以上垂直重 量,膜層無剝落,N>98 < TBODY> 

真空鍍膜厚度屬於微米級,1μm 相當於傳統電鍍一條的十分之一,因此經過鍍膜作業以後, 並不會影響工件的精度;傳統電鍍的批方式是以一種包的方式在外形成一層電鍍層,並 無高度密著性可言。 

 

 

PVD  鍍膜製作之示意圖 鍍膜製作之示意圖 鍍膜製作之示意圖 鍍膜製作之示意圖。 。。 。 

一般濕式鍍層所製作之鍍膜會在表蓋成一 個薄膜層 ,不論底材之原先形狀為何,表所 呈現出來的薄膜層都會趨於平坦。  

PVD 鍍層會依底材形狀平均在上方形成一個 鍍膜層,依底材高低形狀有所不同,經鍍膜後 的高低形狀也是依照原先底材之態樣。  

 

採用  CSR CCSSRR CSR--101 110011 101 刮痕試驗機之附著力測試結果 刮痕試驗機之附著力測試結果 刮痕試驗機之附著力測試結果 刮痕試驗機之附著力測試結果   

 

TiN 氮化鈦 →    90N 

CrN 氮化鉻 →   92N 

TiAIN 氮化鋁鈦→ 88N