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 PVD 真空離子鍍膜與傳統電鍍         之不同  

 傳統電鍍在 大氣中，以電解液為媒介，屬高污染製程  

真空離子鍍在真空環境下，以電漿為媒介，屬於環保製程 

特性    

 傳統電鍍 均勻性佳，薄膜表有光澤。但僅以包方式 蓋表無密著力可言  

真空離子鍍 膜質緊密，均勻度視旋轉夾具之結構而定 

    傳統  硬度約 Hv900 左右 硬度可達 Hv1800 以上 

    真空  厚度    厚度約為鍍膜的 10 倍以上 厚度為微米級(μm)有絕佳的被性 

    傳統  密著    熱脹冷縮容易脫落 

    真空  寬 0.2mm2 的鑽石壓子尖端可承受 10g 以上垂直重 量，膜層無剝落，N>98 < TBODY> 

真空鍍膜厚度屬於微米級，1μm 相當於傳統電鍍一條的十分之一，因此經過鍍膜作業以後， 並不會影響工件的精度；傳統電鍍的批方式是以一種包的方式在外形成一層電鍍層，並 無高度密著性可言。 

PVD  鍍膜製作之示意圖 鍍膜製作之示意圖 鍍膜製作之示意圖 鍍膜製作之示意圖。 。。 。 

一般濕式鍍層所製作之鍍膜會在表蓋成一 個薄膜層 ，不論底材之原先形狀為何，表所 呈現出來的薄膜層都會趨於平坦。  

PVD 鍍層會依底材形狀平均在上方形成一個 鍍膜層，依底材高低形狀有所不同，經鍍膜後 的高低形狀也是依照原先底材之態樣。  

採用  CSR CCSSRR CSR--101 110011 101 刮痕試驗機之附著力測試結果 刮痕試驗機之附著力測試結果 刮痕試驗機之附著力測試結果 刮痕試驗機之附著力測試結果   

TiN 氮化鈦 →    90N 

CrN 氮化鉻 →   92N 

TiAIN 氮化鋁鈦→ 88N