PVD多弧真空離子鍍膜機
PVD 真空離子鍍膜與傳統電鍍 之不同
傳統電鍍在 大氣中,以電解液為媒介,屬高污染製程
真空離子鍍在真空環境下,以電漿為媒介,屬於環保製程
特性
傳統電鍍 均勻性佳,薄膜表有光澤。但僅以包方式 蓋表無密著力可言
真空離子鍍 膜質緊密,均勻度視旋轉夾具之結構而定
傳統 硬度約 Hv900 左右 硬度可達 Hv1800 以上
真空 厚度 厚度約為鍍膜的 10 倍以上 厚度為微米級(μm)有絕佳的被性
傳統 密著 熱脹冷縮容易脫落
真空 寬 0.2mm2 的鑽石壓子尖端可承受 10g 以上垂直重 量,膜層無剝落,N>98 < TBODY>
真空鍍膜厚度屬於微米級,1μm 相當於傳統電鍍一條的十分之一,因此經過鍍膜作業以後, 並不會影響工件的精度;傳統電鍍的批方式是以一種包的方式在外形成一層電鍍層,並 無高度密著性可言。
PVD 鍍膜製作之示意圖 鍍膜製作之示意圖 鍍膜製作之示意圖 鍍膜製作之示意圖。 。。 。
一般濕式鍍層所製作之鍍膜會在表蓋成一 個薄膜層 ,不論底材之原先形狀為何,表所 呈現出來的薄膜層都會趨於平坦。
PVD 鍍層會依底材形狀平均在上方形成一個 鍍膜層,依底材高低形狀有所不同,經鍍膜後 的高低形狀也是依照原先底材之態樣。
採用 CSR CCSSRR CSR--101 110011 101 刮痕試驗機之附著力測試結果 刮痕試驗機之附著力測試結果 刮痕試驗機之附著力測試結果 刮痕試驗機之附著力測試結果
TiN 氮化鈦 → 90N
CrN 氮化鉻 → 92N
TiAIN 氮化鋁鈦→ 88N