PVD真空離子鍍膜機

真空鈦金可鍍製膜層:金.銀.鎳合金.氮化鈦.氧化鈦.氮化鋯.黑鉻.彩色氧化膜.

 

PVD真空物理氣象反應鍍膜設備,是以金屬為主要的表面處理,利用真空弧光放電.用於蒸發源的鍍膜技術,即在真空環境下引燃陰極與陽極之間,形成自持弧光放電即從陰極弧光輝點放出陰極物質的離子,由於電流局部集中產生的焦耳熱,使陰極材料如Ti(鈦)爆發性的等離子化,在工作偏壓的作用下與反應氣體化合,而沉積在工件表面上形成被鍍膜層